X 射線光譜 (X-Ray Spectroscopy)是進(jìn)行態(tài)密度測(cè)試的常規(guī)方法,但通過(guò)對(duì)納米材料電性能直接測(cè)試,也可以推到出態(tài)密度。用掃描隧道電鏡測(cè)試用微分電導(dǎo)(di/dv)隨電壓的曲線即可推到出態(tài)密度。這種方法利用低電平 AC 信號(hào)調(diào)制于靜態(tài)電流進(jìn)行測(cè)試,電鏡電極與被測(cè)樣品間為高阻接觸。
由于X 射線光譜和掃描隧道電鏡都是昂貴的設(shè)備,如果不是制備并表征納米材料,僅僅是對(duì)納米材料進(jìn)行應(yīng)用性研究,源表(SMU) + 納米探針臺(tái)不失為一種高性?xún)r(jià)比的替代方案。與掃描隧道電鏡法不同,納米探針臺(tái)和被測(cè)樣品間為低阻接觸,這就要求SMU必須具備低電平測(cè)試能力,并根據(jù)被測(cè)樣品的阻抗改變SMU工作模式。這種方法主要測(cè)試被測(cè)樣品的電阻,電阻率及霍爾效應(yīng),更適合納米電子器件的測(cè)試。
二維納米材料電阻率測(cè)試
對(duì)二維納米材料(如石墨烯),電阻率測(cè)試是重要的測(cè)試項(xiàng)目,測(cè)試方法主要為四探針?lè)ǎ═he Four-Point Collinear Probe Method)與范德堡法(The van der Pauw method)。
二維納米材料霍爾效應(yīng)測(cè)試
當(dāng)電流垂直于外磁場(chǎng)通過(guò)半導(dǎo)體時(shí),載流子發(fā)生偏轉(zhuǎn),垂直于電流和磁場(chǎng)的方向會(huì)產(chǎn)生一附加電場(chǎng),從而在半導(dǎo)體的兩端產(chǎn)生電勢(shì)差,這一現(xiàn)象就是霍爾效應(yīng),這個(gè)電勢(shì)差也被稱(chēng)為霍爾電勢(shì)差。通過(guò)對(duì)電勢(shì)差測(cè)試,可以得到被測(cè)材料的載流子濃度與載流子遷移率等參數(shù)。二維納米材料霍爾效應(yīng)測(cè)試,依然用范德堡法,但電極接線與范德堡法測(cè)試電阻率有所不同,并且在測(cè)試霍效應(yīng)時(shí),通常要加磁場(chǎng)。
納米材料及電子器件電學(xué)測(cè)試面臨的挑戰(zhàn)
●納米級(jí)尺寸,性能異于宏尺寸材料與器件
●狀態(tài)變化快,對(duì)測(cè)試儀器響應(yīng)速度有要求
●需配合納米探針臺(tái)
●必須防自熱,否則極易燒毀被測(cè)樣品,需選擇帶有脈沖模式的 SMU
納米材料承受及測(cè)試電流超小(達(dá) fA 級(jí)),承受及測(cè)試電壓超低(達(dá) nV 級(jí)),不同種類(lèi)的材料,電阻范圍超寬,從uΩ~TΩ,需選擇與被測(cè)納米材料和器件電性能相適應(yīng)的 SMU,需多種降低誤差與噪聲的手段,如加流測(cè)壓或加壓測(cè)流,四線法連接,屏蔽與濾波,降低熱噪聲等。
有關(guān)納米材料電學(xué)測(cè)試方案將分別在《納米線/碳納米管測(cè)試方案》及《二維/石墨烯材料測(cè)試方案》中詳述。納米材料電學(xué)測(cè)試SMU 應(yīng)用場(chǎng)景、測(cè)試特點(diǎn)及選型原則的示意圖,結(jié)合被測(cè)納米材料或納米電子器件的類(lèi)型及測(cè)試要點(diǎn),選擇最適合的SMU。4200 – SCS 幾乎適用于全部種類(lèi)的納米材料的測(cè)試,當(dāng)然,某些特殊的源表更適合一些特殊的應(yīng)用。
(來(lái)源:泰克科技)