Aston是半導(dǎo)體生產(chǎn)計(jì)量領(lǐng)域中的一次重大演變，實(shí)現(xiàn)了原位分子過程控制，使現(xiàn)有工廠運(yùn)行更高效，并可推動(dòng)產(chǎn)出提升。Aston專為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，它作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái)，可以取代多種傳統(tǒng)工具，并在一系列全面應(yīng)用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積、腔室清潔、腔室匹配和消解。

 

“通過Aston，某些應(yīng)用中的單位工藝吞吐量可以提升40%以上，這是一個(gè)很大的改進(jìn)。“對(duì)于一家典型的晶圓廠來說，即使整體產(chǎn)能提高1%，每年的產(chǎn)量也能增加價(jià)值數(shù)千萬美元。”Atonarp公司首席執(zhí)行官、首席技術(shù)官和創(chuàng)始人Prakash Murthy說，“在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝Aston，可在短短6到8周內(nèi)實(shí)現(xiàn)更高產(chǎn)量，而安裝新的生產(chǎn)設(shè)備則需要長達(dá)一年的時(shí)間。這將從本質(zhì)上幫助制造商提高其生產(chǎn)水平，并有助于解決目前半導(dǎo)體晶圓廠產(chǎn)能不足的問題。”

 

快速、可操作的端點(diǎn)檢測(cè)（EPD）是運(yùn)行半導(dǎo)體工具和晶圓廠的最有效方式。到目前為止，許多工藝步驟都無法部署EPD，因?yàn)樗璧脑粋鞲衅鞑荒芙?jīng)受住苛刻的工藝或腔室清潔化學(xué)品的影響，或者會(huì)因冷凝水沉積而出現(xiàn)堵塞。因此晶圓廠不得不設(shè)定特定時(shí)間，以確保過程徹底執(zhí)行完畢。相反，Aston通過準(zhǔn)確檢測(cè)一個(gè)過程何時(shí)結(jié)束來優(yōu)化生產(chǎn)，包括腔室清潔，這可將所需的清潔時(shí)間減少80%。

 

Aston對(duì)腐蝕性氣體和氣態(tài)污染物冷凝物具有抵抗力。它比現(xiàn)有解決方案更堅(jiān)固，具有獨(dú)立的雙電離源（一個(gè)經(jīng)典的電子沖擊電離源，和一個(gè)無燈絲等離子體電離器），因此可在半導(dǎo)體生產(chǎn)中出現(xiàn)的惡劣條件下可靠運(yùn)行。這使Aston能夠原位，即在傳統(tǒng)電子電離器會(huì)迅速腐蝕和失效的苛刻環(huán)境中使用。

 

與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比，Aston的服務(wù)間隔時(shí)間延長了100倍。它擁有自清潔能力，可以清除某些過程中產(chǎn)生的冷凝物沉積。

 

由于Aston能夠自主產(chǎn)生等離子體，無論是否存在過程等離子體，均可正常運(yùn)行。這與光學(xué)發(fā)射光譜測(cè)量技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)勢(shì)，后者需要等離子體源方可操作，這使Aston成為ALD和某些金屬沉積工藝的理想選擇，這些工藝可能會(huì)需要使用較弱的、脈沖等離子體，或無需等離子體進(jìn)行處理。

 

Aston還能夠通過提供量化、可操作的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)來提高過程一致性，并可通過人工智能推進(jìn)高性能機(jī)器學(xué)習(xí)，滿足最苛刻的過程應(yīng)用。除此之外，得益于實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析和腔室管理的高精確度、靈敏度和可重復(fù)性，生產(chǎn)線和產(chǎn)品產(chǎn)量也得到了提高。

 

Aston主要針對(duì)化學(xué)氣相沉積（CVD）和蝕刻應(yīng)用，這兩種應(yīng)用的年增長率均超過13%。該光譜儀既可在新腔室組裝時(shí)安裝在其中，也能夠加裝在已經(jīng)運(yùn)行的現(xiàn)有腔室中。

 

Aston還可與韓國ATI公司開發(fā)的智能壓力控制器Psi組合使用。在經(jīng)歷了為期數(shù)月的全面技術(shù)可行性評(píng)估后，這一組合解決方案最近出售給三星公司，用于一個(gè)先進(jìn)的過程控制應(yīng)用。

 

Aston已可直接于Atonarp，或通過Atonarp的全球合作伙伴網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行評(píng)估和訂購。

 

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